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清溢光電:正在推進(jìn)130nm-65nm PSM和OPC工藝的掩膜版開(kāi)發(fā)

2024-01-16 21:06:08

每經(jīng)AI快訊,清溢光電發(fā)布的投資者關(guān)系活動(dòng)記錄顯示,公司于1月11日接受恒生前?;稹⑸姓?、格林基金管理有限公司等約40家機(jī)構(gòu)的調(diào)研。清溢光電表示,公司已實(shí)現(xiàn)180nm工藝節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體芯片掩膜版的量產(chǎn),已實(shí)現(xiàn)150nm工藝節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體芯片掩膜版的客戶(hù)測(cè)試認(rèn)證。目前,公司正在推進(jìn)130nm-65nm的PSM和OPC工藝的掩膜版開(kāi)發(fā)和28nm半導(dǎo)體芯片所需的掩膜版工藝開(kāi)發(fā)規(guī)劃。(每日經(jīng)濟(jì)新聞)

責(zé)編 王瀚黎

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